Regular fabrics in deep sub-micron integrated-circuit design:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person: Mo, Fan (VerfasserIn)
Format: Elektronisch E-Book
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Boston Kluwer Academic Publishers 2004
Schlagwörter:
Umfang:vii, 242 p.
ISBN:1402080409
1402080417