Patent- und Gebrauchsmusterverletzung:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person: Hahn, Tobias (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Deutsch
Veröffentlicht: Hagen HWV, Hagener Wissenschaftsverlag 2016
Ausgabe:4. überarbeitete Auflage, Stand: 2016
Schriftenreihe:Fachanwalt gewerblichen Rechtsschutz Bd. 2
Schlagwörter:
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Umfang:109 Seiten 23 cm
ISBN:9783732100477