Verfügbarkeit: Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop

Elektrochemische Nanostrukturierung von Si-Oberflächen durch selektives Ritzen von isolierenden Dünnfilmen mit dem Rasterkraftmikroskop: = Electrochemical nanopatterning of Si surfaces through insulating layers by atomic force microscope scratching

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Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person:	Zhang, Yan 1977- (VerfasserIn)
Format:	Hochschulschrift/Dissertation Buch
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2008
Schlagwörter:	Kupfer Oberflächenbehandlung Lithografie > Halbleitertechnologie Rasterkraftmikroskop Abscheidung Silicium Hochschulschrift
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