Verfügbarkeit: Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie

Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie: Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen

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Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person:	Bergmann, Ralf Bernhard (VerfasserIn)
Format:	Hochschulschrift/Dissertation Buch
Sprache:	Deutsch
Veröffentlicht:	Berlin 1991
Schlagwörter:	Charakterisierung Dünne Schicht SOI-Technik Siliciumdioxid Dissertation Wachstum Silicium Flüssigphasenepitaxie Hochschulschrift
Umfang:	[2], 132 S. Ill., graph. Darst.

Internformat

MARC


LEADER	00000nam a2200000 c 4500
001	BV025858914
003	DE-604
005	00000000000000.0
007	t\|
008	100417s1991 xx ad\|\| m\|\|\| 00\|\|\| ger d
015			\|a 92,H05,0375 \|2 dnb
035			\|a (OCoLC)612149332
035			\|a (DE-599)BVBBV025858914
040			\|a DE-604 \|b ger \|e rakwb
041	0		\|a ger
049			\|a DE-11
084			\|a UQ 2200 \|0 (DE-625)146489: \|2 rvk
100	1		\|a Bergmann, Ralf Bernhard \|e Verfasser \|4 aut
245	1	0	\|a Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie \|b Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
264		1	\|a Berlin \|c 1991
300			\|a [2], 132 S. \|b Ill., graph. Darst.
336			\|b txt \|2 rdacontent
337			\|b n \|2 rdamedia
338			\|b nc \|2 rdacarrier
502			\|a Stuttgart, Univ., Diss., 1991
650	0	7	\|a Charakterisierung \|0 (DE-588)4069926-2 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Dünne Schicht \|0 (DE-588)4136925-7 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a SOI-Technik \|0 (DE-588)4128029-5 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Siliciumdioxid \|0 (DE-588)4077447-8 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Dissertation \|0 (DE-588)4012494-0 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Wachstum \|0 (DE-588)4064115-6 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Silicium \|0 (DE-588)4077445-4 \|2 gnd \|9 rswk-swf
650	0	7	\|a Flüssigphasenepitaxie \|0 (DE-588)4154732-9 \|2 gnd \|9 rswk-swf
655		7	\|0 (DE-588)4113937-9 \|a Hochschulschrift \|2 gnd-content
689	0	0	\|a SOI-Technik \|0 (DE-588)4128029-5 \|D s
689	0	1	\|a Siliciumdioxid \|0 (DE-588)4077447-8 \|D s
689	0	2	\|a Flüssigphasenepitaxie \|0 (DE-588)4154732-9 \|D s
689	0		\|5 DE-604
689	1	0	\|a Wachstum \|0 (DE-588)4064115-6 \|D s
689	1		\|8 1\p \|5 DE-604
689	2	0	\|a Dissertation \|0 (DE-588)4012494-0 \|D s
689	2		\|8 2\p \|5 DE-604
689	3	0	\|a Charakterisierung \|0 (DE-588)4069926-2 \|D s
689	3		\|8 3\p \|5 DE-604
689	4	0	\|a Silicium \|0 (DE-588)4077445-4 \|D s
689	4		\|8 4\p \|5 DE-604
689	5	0	\|a Dünne Schicht \|0 (DE-588)4136925-7 \|D s
689	5		\|8 5\p \|5 DE-604
883	1		\|8 1\p \|a cgwrk \|d 20201028 \|q DE-101 \|u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
883	1		\|8 2\p \|a cgwrk \|d 20201028 \|q DE-101 \|u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
883	1		\|8 3\p \|a cgwrk \|d 20201028 \|q DE-101 \|u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
883	1		\|8 4\p \|a cgwrk \|d 20201028 \|q DE-101 \|u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
883	1		\|8 5\p \|a cgwrk \|d 20201028 \|q DE-101 \|u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
943	1		\|a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-019106682

Datensatz im Suchindex

_version_	1818968705127677952
any_adam_object
author	Bergmann, Ralf Bernhard
author_facet	Bergmann, Ralf Bernhard
author_role	aut
author_sort	Bergmann, Ralf Bernhard
author_variant	r b b rb rbb
building	Verbundindex
bvnumber	BV025858914
classification_rvk	UQ 2200
ctrlnum	(OCoLC)612149332 (DE-599)BVBBV025858914
discipline	Physik
format	Thesis Book
fullrecord	<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>02447nam a2200613 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV025858914</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">00000000000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t\|</controlfield><controlfield tag="008">100417s1991 xx ad\|\| m\|\|\| 00\|\|\| ger d</controlfield><datafield tag="015" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">92,H05,0375</subfield><subfield code="2">dnb</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)612149332</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV025858914</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-11</subfield></datafield><datafield tag="084" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">UQ 2200</subfield><subfield code="0">(DE-625)146489:</subfield><subfield code="2">rvk</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Bergmann, Ralf Bernhard</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie</subfield><subfield code="b">Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Berlin</subfield><subfield code="c">1991</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">[2], 132 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Stuttgart, Univ., Diss., 1991</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Charakterisierung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4069926-2</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Dünne Schicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4136925-7</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">SOI-Technik</subfield><subfield code="0">(DE-588)4128029-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Siliciumdioxid</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077447-8</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Dissertation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4012494-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Wachstum</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064115-6</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Flüssigphasenepitaxie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4154732-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">SOI-Technik</subfield><subfield code="0">(DE-588)4128029-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Siliciumdioxid</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077447-8</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Flüssigphasenepitaxie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4154732-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Wachstum</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064115-6</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="2" ind2="0"><subfield code="a">Dissertation</subfield><subfield code="0">(DE-588)4012494-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="2" ind2=" "><subfield code="8">2\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="3" ind2="0"><subfield code="a">Charakterisierung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4069926-2</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="3" ind2=" "><subfield code="8">3\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="4" ind2="0"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="4" ind2=" "><subfield code="8">4\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="5" ind2="0"><subfield code="a">Dünne Schicht</subfield><subfield code="0">(DE-588)4136925-7</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="5" ind2=" "><subfield code="8">5\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">2\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">3\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">4\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">5\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield><datafield tag="943" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-019106682</subfield></datafield></record></collection>
genre	(DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content
genre_facet	Hochschulschrift
id	DE-604.BV025858914
illustrated	Illustrated
indexdate	2024-12-20T14:08:56Z
institution	BVB
language	German
oai_aleph_id	oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-019106682
oclc_num	612149332
open_access_boolean
owner	DE-11
owner_facet	DE-11
physical	[2], 132 S. Ill., graph. Darst.
publishDate	1991
publishDateSearch	1991
publishDateSort	1991
record_format	marc
spelling	Bergmann, Ralf Bernhard Verfasser aut Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen Berlin 1991 [2], 132 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Stuttgart, Univ., Diss., 1991 Charakterisierung (DE-588)4069926-2 gnd rswk-swf Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd rswk-swf SOI-Technik (DE-588)4128029-5 gnd rswk-swf Siliciumdioxid (DE-588)4077447-8 gnd rswk-swf Dissertation (DE-588)4012494-0 gnd rswk-swf Wachstum (DE-588)4064115-6 gnd rswk-swf Silicium (DE-588)4077445-4 gnd rswk-swf Flüssigphasenepitaxie (DE-588)4154732-9 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content SOI-Technik (DE-588)4128029-5 s Siliciumdioxid (DE-588)4077447-8 s Flüssigphasenepitaxie (DE-588)4154732-9 s DE-604 Wachstum (DE-588)4064115-6 s 1\p DE-604 Dissertation (DE-588)4012494-0 s 2\p DE-604 Charakterisierung (DE-588)4069926-2 s 3\p DE-604 Silicium (DE-588)4077445-4 s 4\p DE-604 Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 s 5\p DE-604 1\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk 2\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk 3\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk 4\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk 5\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk
spellingShingle	Bergmann, Ralf Bernhard Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen Charakterisierung (DE-588)4069926-2 gnd Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd SOI-Technik (DE-588)4128029-5 gnd Siliciumdioxid (DE-588)4077447-8 gnd Dissertation (DE-588)4012494-0 gnd Wachstum (DE-588)4064115-6 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd Flüssigphasenepitaxie (DE-588)4154732-9 gnd
subject_GND	(DE-588)4069926-2 (DE-588)4136925-7 (DE-588)4128029-5 (DE-588)4077447-8 (DE-588)4012494-0 (DE-588)4064115-6 (DE-588)4077445-4 (DE-588)4154732-9 (DE-588)4113937-9
title	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_auth	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_exact_search	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_full	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_fullStr	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_full_unstemmed	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
title_short	Siliziumschichten auf Siliziumdioxid mittels Flüssigphasenepitaxie
title_sort	siliziumschichten auf siliziumdioxid mittels flussigphasenepitaxie herstellung und charakterisierung von schichtsystemen
title_sub	Herstellung und Charakterisierung von Schichtsystemen
topic	Charakterisierung (DE-588)4069926-2 gnd Dünne Schicht (DE-588)4136925-7 gnd SOI-Technik (DE-588)4128029-5 gnd Siliciumdioxid (DE-588)4077447-8 gnd Dissertation (DE-588)4012494-0 gnd Wachstum (DE-588)4064115-6 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd Flüssigphasenepitaxie (DE-588)4154732-9 gnd
topic_facet	Charakterisierung Dünne Schicht SOI-Technik Siliciumdioxid Dissertation Wachstum Silicium Flüssigphasenepitaxie Hochschulschrift
work_keys_str_mv	AT bergmannralfbernhard siliziumschichtenaufsiliziumdioxidmittelsflussigphasenepitaxieherstellungundcharakterisierungvonschichtsystemen

Verfügbarkeit

MARC

Datensatz im Suchindex

‌