Patterning the world: the rise of chemically amplified photoresists
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person: Brock, David C. (VerfasserIn)
Format: Paper
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: 2007
Schlagwörter:
Umfang:Ill.
ISSN:0736-4555