Low incident ion energies:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person: Winterbon, K. B. (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: New York u.a. IFI/Plenum 1975
Schriftenreihe:Ion implantation range and energy deposition distributions. 2.
Umfang:VII, 341 S. graph. Darst.
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Signatur: 0024 76 B 120-2 Lageplan
Exemplar 1 Ausleihbar Am Standort