Verfügbarkeit: Multilagenzonenplatten für die Mikroskopie mit harter Röntgenstrahlung

Multilagenzonenplatten für die Mikroskopie mit harter Röntgenstrahlung:

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Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person:	Eberl, Christian (VerfasserIn)
Format:	Buch
Sprache:	Deutsch
Veröffentlicht:	Göttingen, Niedersachs Universitätsverlag Göttingen 2017
Schriftenreihe:	Göttingen Series in X-ray Physics 21 Göttingen Series in X-ray Physics 21
Schlagwörter:	Röntgenmikroskopie Mehrschichtsystem Fresnel-Zonenplatte
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adam_text	INHALTSVERZEICHNIS 1 EINLEITUNG 1 2 ZONENPLATTEN: GRUNDLAGEN, ENTWICKLUNG UND FORSCHUNGSSTAND 5 2.1 FRESNEL SCHE Z ONENPLATTEN............................................................ 5 2.1.1 WIRKUNGSPRINZIP VON Z O N EN P LATTEN ............................... 7 2.1.2 AUFLOESUNG UND EFFIZIENZ VON ZONENPLATTEN .................... 9 2.1.3 FABRIKATION VON ZONENPLATTEN ........................................ 14 2.2 MULTILAGENBASIERTE TRANSMISSIONSOPTIKEN .................................. 17 3 EXPERIMENTELLE METHODEN 27 3.1 GEPULSTE LASERDEPOSITION (PLD) .................................................... 27 3.2 FOKUSSIERTE IONENSTRAHLTECHNIK (F IB ) .............................................. 30 3.3 IN-SITU M ASSENW AEGUNG ..................................................................... 31 3.4 PROFILOMETRIE ...................................................................................... 31 3.5 M IKROPIPETTENZUGGERAET ..................................................................... 31 3.6 RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE (REM ) .............................................. 32 3.7 TRANSMISSIONSELEKTRONENMIKROSKOPIE (T E M ) ................................ 32 3.8 ROENTGENREFLEKTOMETRIE (X R R )..........................................................33 3.9 ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE (XRD) UND PAAR VERTEILUNGSFUNKTION . . 34 3.10 HOCHAUFLOESENDE RUTHERFORD-RUECKSTREU-SPEKTROSKOPIE (HRRBS) 39 3.11 MONTE-CARLO-SIMULATIONEN (SRIM, SD TRIM SP) ............................. 39 3.12 UNTERSUCHUNGEN MIT SYNCHROTRONSTRAHLUNG ................................... 40 4 NANOFOKUSSIERUNG 41 4.1 W/SI-SY STEM ...................................................................................... 41 4.1.1 ABLATIONSPROZESSE UND TARGETALTERUNG ............................. 42 4.1.2 PLANARE W /SI-M ULTISCHICHTEN .............................................. 47 4.1.3 SPUTTERYIELDANALYSE FUER W /S I .............................................. 49 4.1.4 DEPOSITION VON W/SI-SCHICHTSTRUKTUREN AUF EINEM DRAHT 56 4.1.5 DESIGN UND PRAEPARATION EINER M Z P ................................... 58 4.1.6 ANWENDUNG AM SYNCHROTRON .............................................. 64 4.2 W /Z R0 2 -S Y STE M .............................................................................. 68 5 NANOABBILDUNG 75 5.1 CHARAKTERISIERUNG VON TA2O Z ..................................................... 75 5.1.1 MATERIALWAHL ZUR SUBSTITUTION VON W ................................ 75 5.1.2 ABLATIONSPROZESSE BEI TA2UE 5 .............................................. 79 5.1.3 CHARAKTERISIERUNG VON TA2O^-SCHICHTEN ............................. 81 5.1.4 SCHICHTSTRUKTURANALYSE..........................................................82 INHAL TSVERZEICHN IS 5.1.5 EXAKTE BESTIMMUNG DES SAUERSTOFFGEHALTES........................93 5.1.6 URSACHEN DES SAUERSTOFFDEFIZITES ......................................... 94 5.1.7 WINKELABHAENGIGE DEPOSITION VON TA 205 96 5.2 MULTILAGENZONENPLATTEN FUER A BBILDUNGSEXPERIM ENTE ................. 100 5.2.1 TA 2 O 5 / ZR C 2 -MULTISCHICHTEN................................................ 100 5.2.2 TA 2 O5 / ZRC 2 -MULTILAGENZONENPLATTEN FUER ROENTGENMIK ROSKOPIE ............................................................................... 103 5.2.3 MIKROSKOPIE MIT HARTER R OENTGENSTRAHLUNG ...................... 109 6 ZUSAMMENFASSUNG 115 LITERATURVERZEICHNIS 121
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