Verfügbarkeit: Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz | Technische Universität München

Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar

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Bibliographische Detailangaben
Beteilige Person:	Mes, Peter 1943- (VerfasserIn)
Format:	Elektronisch E-Book
Sprache:	Deutsch
Veröffentlicht:	München C.H. Beck 2015
Ausgabe:	4., neu bearbeitete Auflage
Schriftenreihe:	Beck-online
Schlagwörter:	Deutschland > Gebrauchsmustergesetz Deutschland > Patentgesetz Kommentar
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Beschreibung:	Nebentitel: PatG ; GebrMG
Umfang:	1 Online-Ressource (XXX, 1640 S.)
ISBN:	9783406676444

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