Herstellung, Charakterisierung und Bewertung von leitfähigen Diffusionsbarrieren auf Basis von Ta, Ti und W für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen - Baumann, Jens 1965- (Shaker, 2004)
Keywords: Magnetronsputtern; Kupfer; Metallisieren; Siliciumhalbleiter; Nitride; Diffusionsbarriere; Hochschulschrift